真空镀膜室
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真空镀膜室简介

真空镀膜室主要进行高性能硬质薄膜、溅射靶材的制备技术研制及应用。主要设备为JCP-350M2高真空多靶磁控溅射镀膜机。该设备具有多靶磁控溅射功能,标配2只磁控靶,预留1只靶位及一对蒸发电极,能够溅射蒸发两用;溅射靶采用波纹管结构,方便调整角度;溅射靶中频电源溅射取代传统直流溅射,改善靶的电弧放电及“中毒”现象。

开展的方向有高性能硬质薄膜开展的方向有WMo等高熔点金属薄膜的服役性能及类金刚石、Ti-Al-C-N等高性能硬质涂层的研制及应用。溅射靶材制备技术获得美国发明专利,该方向主要开展高纯金属靶材、复合材料靶材、难熔金属靶材、陶瓷靶材等各种溅射靶材的加工制造及应用研究工作。该室主要设备有JCP-350M2高真空多靶磁控溅射镀膜机。目前,通过该设备正在进行柔性基体钼薄膜结构性能的研究相关工作。

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